台積電將於十二廠安裝ASML超紫外光微影設備
- 上線日期：2010/2/26 上午 12:00:00
- 資料來源：電子工程專輯
晶圓代工大廠台積電(TSMC)日前與荷蘭半導體設備業者艾司摩爾(ASML)共同宣佈，台積電將取得ASML的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個取得這項設備的客戶夥伴之一。
該套ASML的超紫外光微影設備將安裝於台積電超大晶圓廠(GigaFab)──台積十二廠，用以發展新世代的製程技術。台積電也因此成為號稱全球首家可在自身晶圓廠發展超紫外光微影技術的專業晶圓代工業者。
台積電表示，相較於現行浸潤式微影技術以193奈米波長當作光源，超紫外光微影技術導入更短波長的光源，將有機會降低生產成本，而成為積體電路製造更先進技術世代一個有潛力的選擇。該公司目前正在對超紫外光及其他微影技術的最佳成本效益的潛力進行評估。
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