分析師：日本微影設備廠商面臨生存危機
- 上線日期：2010/10/1 上午 12:00:00
- 資料來源：電子工程專輯
投資銀行野村證券(Nomura)的市場分析師指出，超紫外光微影(EUVL)儼然已成為下一代 IC 製程的主流接班技術，但日本微影設備業者在此方面的研發腳步，卻落後歐洲廠商ASML甚多；不過該銀行分析師認為，面臨被市場淘汰危機的日本微影設備廠商，若可透過某種國家支持政策形式來凝聚產業力量，仍為時未晚──因為包括Nikon在內的業者恐怕無法獨力負擔所需的技術研發支出。
野村證券的分析師已經針對各種微影接班技術進行研究，所得出的結論是，儘管EUVL在2015~2016年全面量產之前，還得克服動力來源、光罩與檢查方面的挑戰，但仍是最具潛力的一種微影技術。而事實上，跟目前的氬氟浸潤式193奈米微影雙重圖形(double-patterning)相較，EUVL所面臨的問題還比較少。
「根據那些最積極微縮製程的NAND快閃記憶體製造商說法，EUVL是下一代微影技術的最佳選項，他們並不想用雙重圖形技術(DPT)。」野村證券分析師表示，主要原因是DPT製程不但複雜度較高，也會導致低吞吐量、製程不可靠性以及帶來高成本的低良率。
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