Toppan與IBM光罩技術合作將延伸至14奈米製程
- 上線日期：2011/1/19 上午 12:00:00
- 資料來源：電子工程專輯
日本光罩設備業者 Toppan Printing宣佈已經與IBM針對先進的光罩(photomask)技術，延伸雙方的合作研發協議至 14奈米邏輯製程；兩家公司將在該製程節點延伸使用193奈米浸潤式微影(immersion lithography)技術。
據了解，IBM與 Toppan 的合作研發工作，將分別在IBM位於美國、以及 Toppan 的日本光罩廠進行，時間由2011年1月至2012年。Toppan表示，支援包括超紫外光微影(EUV)在內的新一代微影解決方案，是該公司的使命；因為IBM在主流的ArF浸潤式微影技術方面有成功的開發經驗，該技術也有潛力延伸至14奈米製程，雙方決定要針對此技術進行合作研發。
Toppon補充，14奈米邏輯製程可能會是只採用光學微影技術進行生產的最後一個節點，也可能會是轉進EUV的開端；在193奈米微影技術達到極限之後，未來的製程節點預期將會採用EUV微影。
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