簡單製作超窄石墨烯奈米帶
- 上線日期：2013/8/29 上午 12:00:00
- 資料來源：奈米科學網
美國研究人員研發出一種製作極窄石墨烯奈米帶(graphene nanoribbon, GNR)的新方法。此由大作小(top-down)的製程又稱為「水透鏡遮罩微影」(meniscus-mask lithography)，能製作出寬度少於10 nm且長寬比高於2000的奈米帶。此方式亦能用來製作其它結構如金屬奈米線等。
石墨烯奈米帶是一種導電性會隨寬度變化的特殊材料，當寬度逐漸增加時會由半導性轉變為半金屬。石墨烯奈米帶可應用於高效能奈米電子元件上，例如高頻電晶體與感知器，也可作為奈米電路中理想的內連線材料。雖然一些「平面」(planar)技術可用來製作石墨烯奈米帶，譬如利用共聚物遮罩對石墨烯圖案化，但這些方式大多相當複雜且不易量產。
萊斯(Rice)大學James Tour團隊所提出的方法不僅克服了上述種種困難，並且無須使用複雜的高解析微影設備。研究人員在石墨烯表面上預先定義圖案，接著利用電漿進行蝕刻，然後在相同區域鍍上一犧牲層(譬如鋁材料)。最後再轉化此遮罩，並蝕刻石墨烯其餘表面。Tour表示，此方法能確保圖案內外的石墨烯被蝕刻，而在圖案邊緣留下極窄的石墨烯帶。
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