工研院南分院 發表微型雷射投影技術
- 上線日期：2010/11/12 上午 12:00:00
- 資料來源：經濟日報
國內雷射微投影技術有重大突破。工研院發表最新的微型雷射投影技術，其獨特的四項光學掃瞄補償技術可在投影亮度、銳利度、均勻度、色域上做提升，投影畫面平整不扭曲，同時也提高系統相容性，使廠商在選擇光機元件時有更大的彈性，對業界是十分受用的技術突破。
此外，以其技術所開發的模組體積已可縮小達8c.c.左右，未來更可縮小到3 c.c.；將提供裝載於智慧型手機、數位相機、PDA等3C消費性電子產品上，提供高準度的雷射行動隨身投影功能。
工研院南分院目前所開發的微型雷射投影技術，具備四項獨特的光學掃瞄補償技術，為目前雷射投影技術所遇到的問題，提供了最佳的解決方案。
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