原子層沉積技術
- 上線日期：2008/10/31 上午 12:00:00
- 資料來源：經濟日報 2008/10/31
國研院儀器科技研究中心11月12、13日舉辦「原子層沉積技術應用研討會」，介紹原子層沉積製程理論、相關設備技術實務與研發應用現況。
儀科中心表示，原子層沉積技術是藉由前驅物氣體與基板表面產生的自我侷限反應機制以成長薄膜，其優點為精密厚度控制，高階梯覆蓋性及大面積鍍膜均勻性，在元件尺寸縮小化的趨勢下，被視為半導體業發展與奈米材料製程研究的重要先進技術。
有鑑於此，該中心規劃「原子層沉積技術應用研討會」，邀儀科中心研究員兼真空技術組組長蕭健男、副研究員柯志忠、交大材料所教授陳智、交大電子所教授簡昭欣，主講「原子層沉積技術與應用」、「原子層沉積系統設計與製程開發」、「原子層沉積技術在奈米結構材料之應用」、「原子層沉積技術在半導體元件之應用」。儀器科技研究中心電話（03）577-9911轉313號，網址www.itrc.org.tw。
- 相關附件: