操控鐵奈米線的磁化過程
- 上線日期：2010/8/23 上午 12:00:00
- 資料來源：奈米科學網
不同外形的磁性奈米線可以經由不同的製程產生，常見的方法包含在自我組織的基板上進行沉積，或利用微影術製作人工薄膜結構。磁化過程已經被許多研究團隊廣泛研究過，發現磁化不只取決於形狀、尺寸與材料的內在特性，還與許多外在因素有關。換言之，結構對製程的特性相當敏感，實際上也很難對樣品的磁性行為做一般性的描述。這對於磁性奈米線的應用是個缺點，因為這個技術仰賴控制良好的磁化過程，而且必須不受製造過程引入的缺陷的影響。
為了仔細研究這個問題，西班牙Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM-CSIC)與馬德里技術大學(Technical University of Madrid)的科學家，利用一個自製的脈衝雷射沉積系統，來產生高品質的Au(001)/Fe(001)/Mg(001)磊晶薄膜，該樣品具有輪廓鮮明且平整的Au/Fe 與 Fe/MgO接面。
這個團隊透過三種不同的製程，以聚焦離子束(focused ion beam)與電子束來對正光阻或負光阻曝光，在上述薄膜上製作出寬100到 1000 nm的奈米線陣列。奈米線的磁化過程基本上受制於它們的形狀及尺寸，以及鐵離子本身的磁性參數，不太受到薄膜沉積與曝光過程產生的瑕疵的影響。
具備製作高品質奈米結構的能力，讓科學家得以將它們當成模型系統加以研究，並藉由簡單的解析方法來解釋它們的磁性反轉，計算得到的結果與實驗數據相當吻合。此西班牙團隊專注於利用不同的微影製程技術在薄膜中製造的人工奈米結構，並研究其磁化過程。詳見Nanotechnology 21, p. 255301(2010)。
原始網站: http://nanotechweb.org/cws/article/tech/43073
譯者:孫士傑(高雄大學應用物理系)
責任編輯:蔡雅芝
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