富勒烯光阻劑符合綠色期待
- 上線日期：2008/8/13 上午 12:00:00
- 資料來源：奈米科學網http://nano.nchc.org.tw/
廢棄物處理費用的高漲迫使晶片製造業者開始尋找容易回收且對環境較友善的製程材料，最近英國科學家發展出的水溶性富勒烯光組劑或抗蝕劑(fullerene resist)，可能就是他們期盼的替代品。
伯明罕大學(University of Birmingham)的Alex Robinson表示，微影光阻劑通常是透過有機溶劑來塗佈，並在水溶液或有機溶劑中顯影。若能以水來取代這些溶劑，將可減少光阻劑對環境的衝擊。研究人員宣稱，與其他水溶性光阻劑相較，使用富勒烯光阻劑得到的解析度明顯較好。為了證明這一點，該團隊已經使用其配方將小至30 nm的線寬轉移至矽晶圓上。
研究人員發現，富勒烯光阻劑對於用來將圖案轉移至半導體的電漿蝕刻(plasma etching)，有高度抗蝕性，這意味著有可能以較薄的光阻劑膜達到想要的蝕刻深度。當圖案線寬小於100 nm時，顯影劑乾燥時的表面張力能會造成圖案崩塌，限制了光阻劑能達到的深寬比(aspect ratio)，因此較薄的膜可以得到較佳的解析度。
到目前為止，富勒烯光阻劑的表現還不錯，但是要博得晶片製造業者的青睞，它必須具備媲美現行光阻劑的效能。Robinson指出，他們的水性抗蝕劑展現了高解析度，但靈敏度仍需加強。該團隊正在合成具有化學放大(chemical amplification)特性的物質。為了增強曝光的影響，該團隊在製作圖案的薄膜中加入光酸產生劑(photoacid generator)。曝光時，光酸產生劑釋放出酸與光阻劑進行光催化反應，使入射電子或光子的效果倍增，因此可以降低電子與光的需求量。
該團隊目前已經製作出具有高解析度及化學放大高感度的富勒烯光阻劑，不過仍需搭配有機顯影劑。他們下一步將調整光阻劑，使其能適用於水性顯影劑。詳見Nanotechnology 19, p.275308 (2008)。
原始網站: http://nanotechweb.org/cws/article/tech/34976
譯者:李書安(逢甲大學環境工程與科學學系)
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